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    [资讯]ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限 [复制链接]

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    在线cyqdesign
     
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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 03-16
    关键词: ASMLEUV光刻机
    EUV光刻机方面,荷兰ASML(阿斯麦)公司垄断了目前的EUV光刻机,去年出货26台,创造了新纪录。据报道,ASML公司正在研发新一代EUV光刻机,预计在2022年开始出货。根据ASML之前的报告,去年他们出货了26台EUV光刻机,预计2020年交付35台EUV光刻机,2021年则会达到45台到50台的交付量,是2019年的两倍左右。 g&Uu~;jq]  
    cXr_,>k  
    ccx0aC3@I  
    目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时,支持7nm、5nm。 ka{!' ^  
    |Ho} D~  
    此外,NXE:3400C的产能也从之前的125WPH(每小时处理晶圆数)提升到了175WPH。 ]US!3R^  
    l<(jm{q?u  
    不论NXE:3400B还是NXE:3400C,目前的EUV光刻机还是第一代,主要特点是物镜系统的NA(数值孔径)为0.33。 8wEJyAu2  
    Po。by~|  
    ASML最近纰漏他们还在研发新一代EUV光刻机EXE:5000系列,NA指标达到了0.55,主要合作伙伴是卡尔蔡司、IMEC比利时微电子中心。 Z^%HDB9^  
    <^W5UU#Pg  
    与之前的光刻机相比,新一代光刻机意味着分辨率提升了70%左右,可以进一步提升光刻机的精度,毕竟ASML之前的目标是瞄准了2nm甚至极限的1nm工艺的。 J$T(p%  
    t1$pl6&,  
    不过新一代EUV光刻机还有点早,至少到2022年才能出货,大规模出货要到2024年甚至2025年,届时台积电、三星等公司确实要考虑3nm以下的制程工艺了。
     
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    离线rmsh
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    只看该作者 1楼 发表于: 03-16
    光刻机
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    只看该作者 2楼 发表于: 03-17
    我们一定要干上去
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    只看该作者 3楼 发表于: 03-17
    能研制成功吗
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    只看该作者 4楼 发表于: 03-17
    EUC光刻机!
    离线bairuizheng
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    只看该作者 5楼 发表于: 03-17
    还是厉害啊
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    只看该作者 6楼 发表于: 03-17
    ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限
    离线songshaoman
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    只看该作者 7楼 发表于: 03-17
    买买买
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    只看该作者 8楼 发表于: 03-17
    ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限
    离线木子示羊
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    只看该作者 9楼 发表于: 03-17
    ASML研发下一代EUV光刻机:分辨率提升70% 逼近1nm极限
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